真空鍍膜機(jī)廠家真空鍍膜設(shè)備真空模板
真空鍍膜機(jī)廠家真空鍍膜設(shè)備真空模板利用電子束加熱使真空鍍膜膜材汽化蒸發(fā)后，凝結(jié)在基片表面真空鍍膜呈膜使真空鍍膜蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中一種重要的加熱方法。
這種真空鍍膜裝置很多。隨著真空鍍膜薄膜技術(shù)的應(yīng)用，不但對真空鍍膜膜層的種類要求繁多，而且對真空鍍膜膜層的質(zhì)量要求更加嚴(yán)格。真空鍍膜電阻蒸發(fā)鍍已不能滿足真空鍍膜蒸鍍某些金屬和非金屬的需要。真空鍍膜電子束熱源能獲得遠(yuǎn)比真空鍍膜電阻熱源更大的能量密度，數(shù)值可達(dá)(104—109)W/cm2，因此可以將真空鍍膜膜材加熱到3000—60000C。
這就為真空鍍膜蒸發(fā)難熔金屬和非金屬材料如鎢，鉬，鍺，SiO2,Ai2O3等提供了較好的熱源。而且由于真空鍍膜被蒸鍍的材料是放在水冷坩堝內(nèi)，因此可避免容器材料的蒸發(fā)及容器材料與真空鍍膜膜材之間的反應(yīng)，這對提高真空鍍膜的膜的純度是極為重要的。
另外，熱量可直接加到真空鍍膜的膜材表面上，因此熱效率高，熱傳導(dǎo)和熱輻射損失少。
一、電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)
真空鍍膜機(jī)具有石英晶體膜厚自動(dòng)控制及光學(xué)膜厚自動(dòng)控制兩種方式,通過PLC和工控機(jī)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)對整個(gè)鍍膜過程的全程自動(dòng)控制,包括真空系統(tǒng),烘烤系統(tǒng),蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能,可實(shí)現(xiàn)無人值守的自動(dòng)控制,從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性.
應(yīng)用范圍：主要用于光學(xué)膜及電學(xué)膜領(lǐng)域,適用于塑料,陶瓷玻璃晶體等,基體的鍍膜,如:紅外膜,寬帶增透膜,透明導(dǎo)電膜,干涉截止濾光片偏振膜,金屬化合物膜,VCD分光膜,各類激光膜。
基本參數(shù)：
極限真空：3×10-4Pa
恢復(fù)真空時(shí)間：大氣至4×10-3Pa≤15min
采用KT-630型擴(kuò)散泵（22000L/s）兩臺(帶移相溫度控制)，HGL－150型滑閥泵一臺+ZJP-600羅茨泵一臺，維持泵2X－30型機(jī)械泵（30L/s）一臺；配備防湍流裝置
真空程序有自動(dòng)和手動(dòng)兩種模式。日本歐姆龍型PLC控制所有泵閥動(dòng)作；高閥、低閥、預(yù)閥，到位信號送入PLC控制信號；PLC程序帶故障報(bào)警功能，如氣壓、水流、機(jī)械泵等保護(hù)及報(bào)警；
工件轉(zhuǎn)動(dòng)：采用磁流體密封轉(zhuǎn)動(dòng)裝置
工件烘烤：桶狀上烘烤,三點(diǎn)控溫,加熱器采用管狀加熱器，配溫控儀
E型電子槍兩支，槍功率10KW/支；束偏轉(zhuǎn)角270°；陽極電壓為-4KV～-10KV連續(xù)可調(diào)，穩(wěn)壓精度：±0.5%；束流：0－1000mA可調(diào)；具有X、Y方向掃描，掃描波形有三角波、正弦波、矩形波可選擇，并能存儲每一位坩堝的掃描參數(shù)。電子槍主體有屏蔽罩，電子槍輸出功率穩(wěn)定。
配備美國Inficon的MDC360C型或SQC310石英晶體膜厚儀。
12英寸的觸摸屏，可編程控制器（PLC）中央控制方式及其相關(guān)電氣控制單元對設(shè) 備真空系統(tǒng)、蒸發(fā)源系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、工件轉(zhuǎn)動(dòng)系統(tǒng)、膜厚監(jiān)控系統(tǒng)等進(jìn)行監(jiān)測和控制，并能把石英晶控的功能在觸摸屏上進(jìn)行操作
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